سامسونگ در قراردی به ارزش 773 میلیون دلار، دو دستگاه لیتوگرافی بسیار پیشرفته از شرکت هلندی ASML خریداری کرد. هرچند ممکن است تصور کنید تعداد آن ناچیز است، اما باید بدانید که هر یک از آنها ماهانه قادر به پردازش ده‌ها هزار ویفر هستند. جزئیات جالب را در ادامه خبر بخوانید.
دستگاه‌های لیتوگرافی خریداری شده توسط کسب و کار تولید تراشه سامسونگ (Samsung Foundry) مدل Twinscan EXE:5200B است و از جدیدترین و پیشرفته‌ترین نسل فناوری لیتوگرافی فرابنفش شدید (EUV) استفاده می‌کند. بنابراین سامسونگ صاحب یکی از پیشرفته‌ترین فناوری‌های ساخت تراشه دنیا شده است. این دستگاه‌ها هر یک قادر به پردازش 175 ویفر در ساعت هستند.
خرید جدید سامسونگ برای تولید تراشه
نخستین دستگاه قرار است تا پایان امسال در یکی از خطوط تولید سامسونگ نصب شود و دستگاه دوم نیز اوایل ۲۰۲۶ بهره‌برداری خواهد شد. این سیستم‌های جدید می‌توانند ترانزیستورهایی با اندازه حدود ۸ نانومتر بسازند که بسیار کوچک‌تر از اندازه واقعی ترانزیستورهای تولید شده با فناوری ساخت 2 نانومتری کنونی است. دقت داشته باشید که اندازه واقعی ترانزیستورهای تشکیل دهنده تراشه‌ها با عدد اسمی فناوری ساخت تراشه یکی نیست.
سامسونگ قصد دارد از این دستگاه‌های لیتوگرافی High-NA EUV ابتدا برای تولید چیپست‌ها و حافظه‌های SRAM استفاده کند و بعدها از آن برای تولید تراشه حافظه DRAM استفاده کند. مزیت بزرگ این فناوری کاهش مراحل تولید تراشه و نیاز پیدا کردن به تعداد کمتری ماسک نوری است که کار طراحان تراشه را بسیار ساده‌تر می‌کند.
طبق گزارش‌ها ASML تا سال ۲۰۲۷ حدود ۱۰ دستگاه High-NA EUV به مشتریان خود تحویل خواهد داد که هر کدام قیمتی نزدیک به ۳۸۰ میلیون دلار دارند. این شرکت همچنین در همان بازه بیش از ۵۰ سیستم Low-NA EUV به مشتریان مختلف از جمله اینتل، سامسونگ و SK Hynix تحویل می‌دهد. اینتل از این دستگاه‌های لیتوگرافی برای فناوری ساخت تراشه 14A خود استفاده خواهد کرد اما SK Hynix تولید تراشه‌های حافظه HBM را هدف‌گذاری کرده است.
در همین رابطه بخوانید:
- همکاری تاریخی اینتل و انویدیا؛ منتظر پردازنده Intel x86 RTX برای دسکتاپ و Nvidia x86 برای سرورها باشید!
- واکنش Acer به همکاری اینتل و انویدیا: نگرانیم!
- اتحاد بزرگ انویدیا و سامسونگ؛ ساخت تراشه‌های سفارشی برای هوش مصنوعی
اینتل گزارش کرده تنها در یک فصل بیش از 30,000 ویفر را با بکارگیری لیتوگرافی High-NA EUV تولید کرده است که موجب کاهش مراحل ساخت و همچنین کاهش تعداد ماسک‌های نوری از 40 عدد به تنها 10 عدد شده است. سامسونگ هم کاهش 60 درصدی مراحل تولید یکی از محصولات خود را گزارش کرده است. بنابراین می‌توان گفت این دستگاه‌های جدید به تولید سریع‌تر تراشه‌های جدید کمک خواهند کرد.
نظر خود را اضافه کنید.
برای ارسال نظر وارد شوید
ارسال نظر بدون عضویت در سایت