چین بزودی از نخستین دستگاه لیتوگرافی پیشرفته خود بهره‌برداری می‌کند؛ مهاجرت از فناوری 90 نانومتری به 28 نانومتری

براساس گزارش‌های جدید منتشر شده از چین، شرکت SMEE قصد دارد تا پایان سال جاری میلادی از نخستین اسکنر لیتوگرافی پیشرفته خود رونمایی کند. این دستگاه می‌تواند به کارخانجات فعال در این کشور اجازه دهد تراشه‌های 28 نانومتری را برای مصارف گوناگون تولید کنند که اتفاقی بزرگ و مهم در صنایع مختلف چین محسوب می‌شود.

شرکت Shanghai Micro Electronics Equipment که به اختصار SMEE نامیده می‌شود در حال حاضر بزر‌گترین و موفق‌ترین شرکت چینی فعال در زمینه تولید اسکنرهای لیتوگرافی است. این شرکت به تازگی اعلام کرده است که قصد دارد تا پایان سال 2023 از نخستین دستگاه لیتوگرافی 28 نانومتری خود بهره‌برداری کند. این اسکنر جدید شرکت SMEE که SSA/800-10W نام دارد پیشرفته‌ترین محصول این شرکت تا به امروز محسوب می‌شود و می‌توان از آن به عنوان گامی بزرگ در جهت گسترش صنایع مختلف کشور چین یاد کرد.

براساس گزارش Tomshardware، پیشرفته‌ترین محصولی که شرکت SMEE تاکنون در زمینه اسکنرهای لیتوگرافی تولید کرده است دسترسی به فناوری 90 نانومتری را فراهم می‌کند و از این نظر تولید نخستین دستگاه لیتوگرافی 28 نانومتری توسط آن خبری مهم و بزرگ به نظر می‌رسد. ساخت این اسکنر لیتوگرافی توسط شرکت SMEE می‌تواند به کارخانجات مختلف فعال در چین اجازه دهد با دستگاه‌های تولید شده در داخل خاک این کشور، تراشه‌های 28 نانومتری تولید کنند. این تراشه‌ها می‌توانند در صنایع مختلف این کشور استفاده‌های فراوانی داشته باشند.

سرمایه‌گذاری برای تولید این دستگاه پیشرفته در ادامه سیاست‌های چین مبنی بر استقلال در زمینه تولید ابزارهای نیم‌رسانا و تراشه‌های پردازشی است. این کشور قصد دارد تا سال‌های آینده وابستگی خود به فناوری‌های خارجی را در این زمینه کاهش دهد. اگرچه ممکن است SMEE بتواند نخستین اسکنر لیتوگرافی 28 نانومتری خود را تولید کند اما این سوال شکل می‌گیرد که آیا این شرکت قادر است این دستگاه‌ها را به تولید انبوه برساند یا خیر؟ در صورت تولید انبوه این دستگاه‌ها شرکت‌های مختلف چینی می‌توانند دستگاه‌های قدیمی تولید شده توسط ASML، Canon و Nikon را با این اسکنرها جایگزین کنند.

در همین رابطه بخوانید:

- فناوری ساخت تراشه 7 نانومتری چین به صورت کامل از TSMC کپی شده است
- تلاش آمریکا برای تحریم حداکثری بزرگترین کارخانه تولید تراشه چین
- تراشه مرموز Kirin 9000S هواوی 14 نانومتری از آب درآمد

جدیدترین تحریم‌های صورت گرفته توسط دولت آمریکا، کارخانجات تولید تراشه در کشور چین را از دست‌یابی به فناوری‌ها و ابزارهایی که به آن‌ها اجازه می‌دهد با استفاده از فناوری 14 یا 16 نانومتری یا کوچک‌تر از آن محصولاتی را تولید کنند منع می‌کند. این تحریم‌ها همچنین سبب می‌شود نتوان در این کشور تراشه‌های 3D NAND با بیشتر از 127 لایه فعال، و تراشه‌های DRAM نسبتاً پیشرفته تولید کرد.

این تحریم‌ها که توسط کشورهای هلند، ژاپن و تایوان نیز حمایت می‌شود سبب شده است شرکت‌هایی همچون SMIC و YMTC که در زمینه تولید تراشه‌های پیشرفته فعالیت دارند نتوانند به ابزارها و فناوری‌های موردنیاز خود دسترسی پیدا کنند. این تحریم‌ها سبب شده است که خط تولید تراشه‌های 12 و 14 نانومتری و همچنین خط تولید نسل دوم از تراشه‌های 7 نانومتری شرکت SMIC و کارخانه تولید حافظه‌های 3D NAND با 128 و 232 لایه از شرکت YMTC متوقف شود.

در نتیجه این تحریم‌ها چین به تجهیزات لیتوگرافی پیشرفته‌ای نیاز دارد تا بتواند کار تولید تراشه‌های موردنیاز خود را با فناوری‌های مناسب همچون 14 نانومتری ادامه دهد. به نظر می‌رسد شرکت SMEE در حال حاضر توانسته است نخستین دستگاه لیتوگرافی 28 نانومتری خود را تولید کند و آن را جهت بهره‌برداری و راه‌اندازی خطوط تولید تراشه در اختیار شرکت SMIC یا دیگر شرکت‌های فعال در این زمینه قرار دهد. انتظار می‌رود در صورت تولید انبوه این دستگاه‌ها، سال آینده شاهد استفاده از آن‌ها در خطوط تولید تراشه چین باشیم.