مدت هاست که چشم به انتظار نشسته ایم تا اینتل معماری پردازنده های با معماری Cannon Lake خود را معرفی کند. اما همانطور که میدانید این شرکت تا به امروز تأخیر های بسیاری را در برنامه رونمایی از این تراشه ها به عمل آورده است. در جدیدترین خبرهای اینتل اعلام کرده که لیتوگرافی جدید و انحصاری را برای این معماری در نظر گرفته است که میتواند همه شرکت ها از جمله سامسونگ و TSMC را به راحتی پشت سر بگذارد.
در همین زمینه اینتل اعلام کرده است که لیتوگرافی جدید این شرکت یک فناوری کامل و جدید خواهد بود که با نمونه های مشابه دو شرکت کره ای و تایوانی Samsung و TSMC متفاوت است. همچنین این شرکت اعلام کرده است که این فناوری با استفاده از تکنیک “Hyper Scaling” ساختاری را ایجاد خواهد کدر که در یک فضای ثابت در مقایسه با نسل های قبل بتوان تعداد ترانزیستورها را دو برابر بیشتر کرد.
در بحث توان پردازشی هم بنا بر ادعای این شرکت شاهد افزایش 25 درصد میزان کارآیی خواهیم بود که این افزایش در بخش مدیریت توان مصرفی تا 45 درصد نیز خواهد رفت. در نظر داشته باشید که این بهبودها در مقایسه با آخرین معماری عملیاتی شده این شرکت یعنی Kaby Lake اعلام شده است.
اگر موارد ادعایی اینتل صحیح باشند و طی سال جاری میلادی شاهد رونمایی از پردازنده های Kaby Lake باشیم به واقع پیشرفتی بزرگ در حوزه توان پردازشی و مدیریت توان مصرفی در پردازنده های کلاس دسکتاپ به وجود خواهد آمد. اما اوج کار دیگر شرکت ها مانند سامسونگ و TSMC این است که لیتوگرافی ایجاد شده برای آنها میتواند در حوزه موبایل نیز مورد استفاده قرار بگیرد.
طی ماه های گذشته هم یکی از پر سر و صدا ترین قراردادهای توافق بین شرکت های فعال در حوزه تراشه ها با عقد قرارداد تولید تراشه های چیپست Snapdragon 835 کوالکام با سامسونگ اتفاق افتاد و در آن سامسونگ به عنوان تنها تولید کننده این تراشه ها با لیتوگرافی 10 نانومتری FinFET اعلام شد.
اینتل اعلام کرده است، در حالیکه در معماری جدید اندازه مسیرهای های جریانی در داخل تراشه به مانند نسل قبلی خود باقی میماند، تراشه های تولید شده توسط این شرکت از نظر ضریب تراکم ترانزیستورها به نسبت کارآیی عملکرد دو برابر بهتر در مقایسه با تراشه های تولید شده توسط سامسونگ در همین ابعاد خواهند داشت. این اتفاق به اینتل اجازه خواهد داد تا با کاهش اندازه سطح die تراشه، هزینه های تولید را نیز کاهش دهد.
البته در کنار فناوری مورد بحث، اینتل برنامه دارد تا نسخه های دیگری از لیتوگرافی 10 نانومتری با نام های +10 و ++10 را نیز توسعه دهد که میتوانند بین 15 تا 30 درصد کارآیی تراشه را افزایش دهند.
نظر خود را اضافه کنید.
برای ارسال نظر وارد شوید
ارسال نظر بدون عضویت در سایت