فناوری‌ای که سال‌ها به عنوان آینده لیتوگرافی شناخته می‌شد، امروز بالاخره وارد صنعت شد. ASML با همکاری SK Hynix اولین دستگاه لیتوگرافی High-NA EUV را در کره جنوبی مونتاژ کردند. گفته شده این فناوری می‌تواند ترانزیستورها را 1.7 برابر کوچکتر و تراکم آن‌ها را سه برابر کند، اتفاقی که آینده DRAM و بازار هوش مصنوعی را متحول خواهد کرد.
اگر در مورد ASML نمی‌دانید
شرکت هلندی ASML، یکی از غول‌های فناوری در حوزه تجهیزات نیمه رسانا است و تنها شرکتی در دنیاست که می‌تواند دستگاه‌های EUV تولید کند. این دستگاه‌ها در واقع به کمک پرتوهای فرابنفش با طول موج بسیار کوتاه، الگوهای میکروسکوپی روی ویفر سیلیکون چاپ می‌کنند و در حال حاضر در شرکت‌های بزرگی مانند TSMC، اینتل و سامسونگ به کار می‌روند.
تقریبا تمام تراشه‌های پیشرفته‌ای که این روزها روی گوشی‌های پرچمدار، کارت گرافیک‌ها و سرورهای هوش مصنوعی شاهد آن هستیم، با دستگاه‌های لیتوگرافی ASML ساخته شده‌اند. اما حالا به تازگی فناوری High-NA EUV وارد صنعت شده که نسل جدیدی از همین فناوری است و تفاوت آن با فناوری جدید در عدد گشودگی لنز یا همان NA است. این عدد برای دستگاه‌های فعلی حدود 0.33 است اما در جدیدترین فناوری لیتوگرافی این عدد به 0.55 رسیده که یعنی دقت بالاتری در ساخت ترانزیستورهای کوچک با تراکم بیشتر خواهد داشت.
فناوری لیتوگرافی High-NA EUV
شرکت‌های ASML و SK Hynix اعلام کردند که بالاخره اولین سیستم تجاری از فناوری High-NA EUV به نام Twinscan NXE:5200B، در کارخانه M16 ایکچئون کره جنوبی، مونتاژ و راه‌اندازی شده است. این دستگاه ابتدا برای تحقیق و توسعه در خصوص نسل جدید DRAMها استفاده می‌شود و سپس در آینده‌ای نزدیک برای تولید انبوه هم به کار گرفته خواهد شد.
به لطف عدد لنز 0.55، این سیستم می‌توان به رزولوشن 8 نانومتری دست پیدا کند، این در حالی است که ابزارهای EUV فعلی با لنز 0.33 به 13 نانومتری محدود هستند. این یعنی با این دستگاه می‌توان ترانزیستورهایی ساخت که 1.7 برابر کوچکتر هستند و تراکم ترانزیستوری روی ویفر هم 2.9 برابر بیشتر خواهد بود.
قدم بزرگی برای SK Hynix
اما این اتفاق بیشتر از همه برای SK Hynix خبر خوبی محسوب می‌شود. این شرکت می‌تواند با این فناوری جدید از رقبای دیرینه خود یعنی سامسونگ و مایکرون سبقت بگیرد. آن هم در حالی که همچنان بسیاری از شرکت‌های نیمه رسانا هنوز درگیر نسل قبلی ابزار EUV هستند. اما حالا این شرکت کره‌ای به پیشرفته‌ترین فناوری لیتوگرافی دنیا دسترسی دارد.
در حال حاضر SK Hynix می‌تواند به کمک این دستگاه EUV، نمونه‌های جدیدی از DRAMهای آینده را طراحی کند. گفته شده تا سال 2030، این فناوری برای تولید انبوه حافظه‌های پیشرفته بسیار حیاتی خواهد بود.
حالا این برای اولین بار است که یک سیستم High-NA EUV به کارخانه تجاری منتقل می‌شود. پیش از این نسخه‌های آزمایشی NXE:5000 تنها در مراکز توسعه‌ای مانند کارخانه D1X در اورگان نصب شده بودند. مدیر تیم مشتری ASML در خصوص این فناوری گفته High-NA EUV فناوری حیاتی است که فصل تازه‌ای در صنعت نیمه رسانا باز می‌کند.
نظر خود را اضافه کنید.
برای ارسال نظر وارد شوید
ارسال نظر بدون عضویت در سایت