احتمالاً میدانید لیتوگرافی پیشرفتهترین فناوری ساخت بشر است و شرکت هلندی ASML حرف اول را در این حوزه میزند. جالب اینکه اخیراً رویترز در یک گزارش اختصاصی مدعی شده چینیها دست به مهندسی معکوس یکی از پیشرفتهترین ماشینهای لیتوگرافیکی ASML زدهاند و موفق به ساخت یک نمونه آزمایشی شدهاند که در یک مرکز فوقمحرمانه نگهداری میشود.
آنچه که این ماجرا را بسیار جالب میکند، ادعای مهندسی معکوس بدون دسترسی به نمونهای واقعی از دستگاه لیتوگرافی EUV شرکت ASML است. ظاهراً چینیها برای این کار به استخدام کارکنان سابق ASML و احتمالاً اسرار به سرقت رفته تکیه کردهاند. بر اساس این گزارش، نمونه اولین ماشین لیتوگرافیکی EUV چین اوایل سال ۲۰۲۵ در یک تأسیسات بهشدت محافظتشده در شهر شنژن تکمیل شده و آنقدر بزرگ است که تقریباً یک سالن کامل کارخانه را اشغال کرده است.
ساخت کلون چینی دستگاه EUV غربی
ادعا شده این سیستم با استفاده از روش تولید پلاسما به کمک لیز (LPP) کار میکند که مشابه اسکنرهای سری Twinscan NXE شرکت ASML است. ظاهراً دستگاه چینیها نور فرابنش شدید(EUV) با طول موج ۱۳.۵ نانومتر تولید میکند که با توجه به شباهت زیاد این پارامتر کلیدی به دستگاه ASML، فرضیه مهندسی معکوس را تقویت میکند.
طبق اطلاعات منتشرشده، این دستگاه در حال حاضر قادر به تولید نور EUV است، اما هنوز به مرحله ساخت تراشههای قابل استفاده نرسیده است. بزرگترین چالش چین کپی برداری از سیستمهای اپتیکی فوقدقیق و سابسیستمهای آن است که ASML آنها را با همکاری شرکت آلمانی Carl Zeiss و طی دههها توسعه داده است.
در حال حاضر جزئیات مهمی مانند توان منبع نور EUV، پایداری اپتیکها و قابلیت تولید انبوه هنوز نامشخصاند و روشن نیست که نمونه ساخت چین در حد آزمایشگاه باقی میماند یا پتانسیل استفاده تجاری دارد.
به گفته منابع رویترز، دولت چین امیدوار است نخستین نمونههای تراشه تولیدشده با این فناوری پیشرفته را تا سال ۲۰۲۸ شاهد باشد، اما تحلیلگران این بازه را بیشازحد خوشبینانه میدانند و سال ۲۰۳۰ را زمانبندی محتملتری ارزیابی میکنند.
باید توجه داشت که مهندسی معکوس سیستمی با بیش از ۱۰۰ هزار قطعه بسیار پیچیده، آن هم بدون دسترسی مستقیم به دستگاه EUV اصلی (که هرگز به چین فروخته نشده)، کاری فوقالعاده دشوار است. به همین دلیل گزارشها از جذب گسترده مهندسان سابق ASML، از جمله کارکنانی از اروپا، تایوان و آمریکا حکایت دارند.
در بخش دیگری از این گزارش آمده است که حدود ۱۰۰ فارغالتحصیل دانشگاهی مأمور باز کردن، تحلیل و مونتاژ مجدد قطعات ابزارهای لیتوگرافی EUV و DUV شدهاند. هر بخش بهطور دائمی تحت نظارت دوربین است و عملکرد موفق با پاداش همراه میشود. با این حال کارشناسان تأکید میکنند که کنار هم قرار دادن قطعات، بهتنهایی برای ساخت یک سیستم EUV قابل استفاده برای تولید تراشه کافی نیست.
جالبتر اینکه شرکت ASML در واکنش به این گزارش گفته است:
«قابل درک است که دیگران بخواهند فناوری ما را بازتولید کنند، اما انجام این کار بههیچوجه ساده نیست.»
اگرچه گزارش رویترز نشان میدهد چین به پیشرفتهایی واقعی در مسیر توسعه EUV دست یافته، اما شواهد فعلی حاکی از آن است که این کشور هنوز سالها با تولید تراشههای EUV در مقیاس صنعتی فاصله دارد. تولید نور EUV تنها یکی از دهها چالش این فناوری است و حتی اگر این گزارش بخشی از پروپاگاندای چینیها نباشد، بازهم پکن مسیار بسیار طولانی در پیش دارد.
جزئیاتی کوچک از پیچیدهترین فناوری ساخت انسان
در فناوری تولید نور EUV شرکت ASML، از قطرات بسیار ریز قلعِ مذاب با اندازهای در حدود ۲۵ تا ۳۰ میکرون استفاده میشود. این قطرات با نرخی نزدیک به ۵۰ هزار قطره در ثانیه به داخل یک محفظه خلأ تزریق میشوند. سپس یک لیزر CO₂ پرقدرت در دو مرحله به هر قطره شلیک میکند.
ابتدا یک پالس ضعیفتر بهعنوان پیشپالس، قطره قلع را به شکل یک دیسک تخت درمیآورد و بلافاصله پس از آن، پالس اصلی و بسیار قویتر، این دیسک قلع را تبخیر کرده و به پلاسما با دمایی بالاتر از ۲۰۰ هزار درجه سانتیگراد تبدیل میکند. این پلاسمای فوقداغ نور EUV با طول موج ۱۳.۵ نانومتر را بهصورت همهجهته ساطع میکند که توسط یک آینه چندلایه بسیار بزرگ جمعآوری شده و به سامانه اپتیکی بازتابی دستگاه لیتوگرافی هدایت میشود تا برای ظاهر کردن ماسکهای تراشهها روی مواد خام مورد استفاده قرار بگیرد. این چرخه پیچیده دهها هزار بار در هر ثانیه تکرار میشود.
نظر خود را اضافه کنید.
برای ارسال نظر وارد شوید
ارسال نظر بدون عضویت در سایت