صنعت نیمه‌هادی چین در آستانه یک دستاورد بزرگ قرار گرفته است. گزارش‌ها حاکی از آن است که شرکت SMIC، در حال آزمایش اولین دستگاه لیتوگرافی فرابنفش عمیق (DUV) ساخت داخل است. تست موفق این دستگاه می‌تواند مسیر تولید انبوه تراشه‌های پیشرفته تا ۵ نانومتر را هموار کرده و وابستگی این کشور به شرکت هلندی AMSL را به شکل چشمگیری کاهش دهد.
تقاضا برای تراشه‌های پیشرفته در چین، به ویژه با رشد سرسام‌آور شرکت‌های داخلی فعال در حوزه هوش مصنوعی، به شدت افزایش یافته است. دولت پکن نیز با جدیت شرکت‌های بزرگ را به استفاده از محصولات داخلی ترغیب می‌کند. این امر در کنار تحریم‌های آمریکا بر ابزارها تراشه‌سازی، فشاری مضاعف بر زنجیره تأمین تراشه این کشور وارد کرده است.
حال بر اساس گزارشی از فایننشال تایمز، بزرگ‌ترین شرکت تراشه‌سازی چین، SMIC، در حال آزمایش تجهیزات لیتوگرافی DUV ساخت استارتاپ «یولیانگ‌شنگ» (Yuliangsheng) است.
عبور از ASML با آزمایش ماشین DUV بومی
تا به امروز، SMIC برای تأمین ماشین‌آلات خود به شدت به شرکت هلندی ASML وابسته بوده است. تحت قوانین فعلی صادرات آمریکا، این شرکت چینی تنها به ماشین‌های لیتوگرافی DUV آن هم پس از کسب مجوز‌های لازم دسترسی دارد.
شرکت SMIC با استفاده از تجهیزات ASML تا کنون موفق به تولید تراشه های ۷ نانومتری شده است؛ اما تولید تراشه های پیشرفته‌تر با تکیه بر فناوری‌هایی که چین اجازه واردات آنها را دارد، عملاً ممکن نیست. به همین دلیل تراشه‌ساز چینی به سراغ راهکارهای داخلی رفته است و اکنون آزمایش‌های اولیه با دستگاه جدید یولیانگ‌شنگ بر روی فرآیند تولید ۷ نانومتری متمرکز است.
چالش نرخ بازدهی و چشم‌انداز تولید ۵ نانومتری
نکته جالب توجه این است که ادعا می‌شود این دستگاه‌های DUV داخلی پتانسیل تولید تراشه‌های ۵ نانومتری را نیز دارند. با این حال، دستیابی به این فناوری بدون دسترسی به دستگاه‌های EUV، نیازمند فرآیندی پیچیده به نام «الگوبرداری چندگانه» یا multiple patterning است که زمان، هزینه و نرخ خطا در تولید تراشه را افزایش داده و به نرخ بازدهی (yield rate) بسیار پایین منجر می‌شود. اما با توجه به اینکه فعلاً دغدغه اصلی شرکت‌های چینی دستیابی به فناوری تولید تراشه‌های پیشرفته‌تر به هر قیمتی است، ممکن است SMIC همانند گذشته حاضر به مصالحه بر سر نرخ بازدهی پایین‌تر باشد.
در همین رابطه بخوانید:
- خداحافظی با لیتوگرافی؟ چین از فناوری چاپ تراشه بدون نیاز به EUV رونمایی کرد
- پایان سلطه ASML؟ چین از سیستم لیتوگرافی EUV خود رونمایی کرد
در همین حال تلاش‌های چین برای دستیابی به فناوری لیتوگرافی EUV که امکان ساخت تراشه‌های زیر ۵ نانومتر را فراهم می‌کند، ادامه دارد.
نظر خود را اضافه کنید.
برای ارسال نظر وارد شوید
ارسال نظر بدون عضویت در سایت