در اقدامی غافلگیرکننده که میتواند معادلات صنعت نیمههادی را تغییر دهد، شرکت نوپای چینی SiCarrier، که ارتباط نزدیکی با هواوی دارد، با رونمایی از طیف وسیعی از تجهیزات پیشرفته ساخت تراشه در نمایشگاه Semicon China، رسماً غولهای آمریکایی و اروپایی این حوزه را به چالش کشیده است.
در حالی که تراشهسازان چینی به تدریج برای کاهش وابستگی به غرب و تقویت اکوسیستم داخلی، به استفاده از تجهیزات ساخت داخل روی آوردهاند، ظهور یک بازیگر جدید و قدرتمند، توجهها را به خود جلب کرده است. شرکت SiCarrier Technologies، استارتاپی که تا پیش از این کمتر شناخته شده بود، در نمایشگاه Semicon China کاتالوگی را منتشر کرد که نشان میدهد این شرکت تقریباً تمام انواع ابزارهای لازم برای پردازش تراشه های سیلیکونی را در سبد محصولات خود دارد. این اقدام، چالشی مستقیم برای شرکتهای پیشرو مانند ASML هلند، Applied Materials، KLA و Lam Research آمریکا محسوب میشود.
بر اساس گزارش Tom’s Hardware، شرکت SiCarrier که چهار سال پیش در شنژن با هدف توسعه ابزارهای ساخت تراشه در کلاس جهانی تأسیس شد، اگرچه خارج از چین کمتر شناخته شده، اما در Semicon China امسال سروصدای زیادی به پا کرد. این شرکت با حمایت صندوق سرمایهگذاری دولتی Shenzhen Major Investment Group و با جذب مهندسان ارشد از رقبای جهانی خود مانند ASML و Applied Materials، به سرعت در حال گسترش مراکز تحقیق و توسعه خود در شانگهای، پکن و حتی خارج از چین است. زنجیره توسعه این شرکت از مواد اولیه و قطعات تا سیستمهای کامل را پوشش میدهد.
ابزارها ارائه شده توسط SiCarrier
کاتالوگ SiCarrier شامل طیف گستردهای از تجهیزات تولید نیمههادی، ابزارهای اندازهگیری (Metrology) و سیستمهای بازرسی است. نکته قابل توجه، عدم وجود ابزارهای لیتوگرافی در این کاتالوگ است که برخی آن را تلاشی برای مخفی نگه داشتن پیشرفتها در این حوزه حساس میدانند. با این حال، Nikkei گزارش داده که SiCarrier پیشتر ابزارهای لیتوگرافی با قابلیت پردازش ویفرهای ۳۰۰ میلیمتری برای فناوریهای ۲۸ نانومتری و قدیمیتر را توسعه داده است.
حتی بدون احتساب لیتوگرافی، SiCarrier دهها ابزار دیگر را لیست کرده که قادر به انجام اکثر قریب به اتفاق مراحل خط تولید اولیه تراشه هستند. این تجهیزات شامل ابزارهای رسوب لایه اتمی (ALD) برای دیالکتریکها و گیتهای فلزی، رسوب شیمیایی بخار (CVD)، رسوب فیزیکی بخار (PVD) برای لایههای پوششی و اتصالات فلزی، اپیتکسی و لایه برداری (etching) میشود. اگرچه جزئیات فنی و قابلیتهای دقیق ابزارها ذکر نشده، اما در کاتالوگ به دفعات به «گرههای پردازشی پیشرفته» و «گرههای پیشرفته آتی» اشاره شده که نشاندهنده جاهطلبی این شرکت است.
در بخش اندازهگیری و بازرسی پس از تولید نیز SiCarrier ابزارهایی برای بررسی نوری ویفرها، میکروسکوپ نیروی اتمی (AFM) برای پایش در مقیاس نانو، و سیستمهای پیشرفته برای اندازهگیری ضخامت لایهها و ترکیب عناصر ارائه میدهد. این شرکت همچنین دستگاههای تست متنوعی از جمله تست الکتریکی ویفر و تستهای عملکردی را عرضه میکند، هرچند این ابزارها در حال حاضر عمدتاً برای نیمههادیهای حوزه الکترونیک قدرت (Power Electronics) هدفگذاری شدهاند.
هنوز مشخص نیست که آیا تمام تجهیزات لیست شده توسط SiCarrier آماده سفارش و تحویل هستند یا خیر، و مهمتر از آن، آیا این دستگاهها با خطوط تولید موجود که عمدتاً بر پایه تجهیزات غربی بنا شدهاند، سازگاری دارند یا نه.
در همین رابطه بخوانید:
- پایان سلطه ASML؟ چین از سیستم لیتوگرافی EUV خود رونمایی کرد
- تجهیزات EUV که هیچ، چین برای خرید دستگاههای لیتوگرافی قدیمیتر هم باید از دولت هلند اجازه بگیرد
با این حال، همکاری نزدیک SiCarrier با هوآوی و تلاش مشترک آنها برای بهینهسازی فرآیندها و شناسایی چالشهای فنی، این احتمال را تقویت میکند که هدف نهایی، ایجاد یک خط تولید کاملاً بومی و انحصاری چینی باشد. اگرچه راهاندازی چنین خط تولیدی ممکن است سالها زمان ببرد، اما ظهور غیر منتظره یک بازیگر جدید، میتواند معادلات صنعت جهانی تراشه را در آینده تغییر دهد.
نظر خود را اضافه کنید.
برای ارسال نظر وارد شوید
ارسال نظر بدون عضویت در سایت