سامسونگ با هدف تقویت جایگاه برتر خود در صنعت نیمه هادی‌ها، یک خط تولید جدید مبتنی بر لیتوگرافی اشعه فرابنفش بسیار شدید (به اختصار EUV) در کره جنوبی می‌سازد. این خط تولید جدید ساخت تراشه‌های با فناوری ساخت کوچک‌تر از 10 نانومتر را بر عهده خواهد گرفت.
سامسونگ انتظار دارد ساخت این خط تولید جدید در نیمه دوم 2019 به پایان برسد و از سال 2020 به تولید محصول برای مصارفی چون گوشی‌های موبایل، سرور، شبکه و محاسبات با کارایی بالا بپردازد که همگی به تراشه‌هایی با کارایی و راندمان بالا نیاز دارند. سرمایه گذاری اولیه بر روی ساخت این خط تولید جدید تا سال 2020 میلادی به 6 میلیارد دلار خواهد رسید و سرمایه گذاری‌های بیشتر بسته به نیاز و شرایط بازار صورت خواهد گرفت. سامسونگ تصمیم گرفته برای اولین بار از فناوری پیشرفته EUV با فناوری ساخت 7 نانومتری LPP خود بهره بگیرد. سامسونگ در خط تولید جدید خود از تجهیزات جدید EUV برای چیرگی بر محدودیت‌ها در ساخت تراشه با فناوری‌های کوچک‌تر از 10 نانومتر بهره خواهد گرفت.
نظر خود را اضافه کنید.
برای ارسال نظر وارد شوید
ارسال نظر بدون عضویت در سایت